铂铑合金溅射靶-「铂铑合金回收」

铂铑合金溅射靶特性（理论值）

专业生产具有最高密度高纯度（99.99％）铂铑合金溅射靶和最小平均晶粒度的高纯度铂铑合金溅射靶材，用于半导体，化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）显示器和光学应用。我们提供的用于薄膜沉积的标准溅射靶材可整体使用，也可与平面靶材尺寸和结构结合使用，最大可达820 mm，并具有钻孔位置，并设计有可与旧式溅射设备以及最新工艺设备一起使用的螺纹，坡口，凹槽和衬背，例如用于太阳能或燃料电池的大面积涂料和倒装芯片应用。旋转（圆柱），圆形，矩形，正方形，环形，环形，椭圆形，“狗骨”形和其他形状的目标物有标准尺寸，定制尺寸和研究尺寸。使用包括X射线荧光（XRF），辉光放电质谱（GDMS）和电感耦合等离子体（ICP）在内的最佳论证技术分析所有目标。使用结晶，固态和其他超高纯工艺（例如升华）生产材料。American Elements专门生产用于商业和研究应用以及新专有技术的定制组合物。请索取以上报价，以获取更多交货时间和价格信息。

铂铑合金溅射靶标同义词
铂铑90/10，铂铑80/20，铂铑70/30，铂-铑（1：1），Pt16Rh13，铂铑，铂6 wt％铑，铂10 wt％铑，铂13 wt％铑，铂20重量％铑，铂30重量％铑