专业回收高纯度钴铂合金溅射靶材,该靶材具有最高的密度高纯度(99.99%)钴铂合金溅射靶和最小的平均晶粒尺寸,可用于半导体,化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)显示器和光学应用。我们提供的用于薄膜沉积的标准溅射靶材可整体使用,也可与平面靶材尺寸和结构结合使用,最大可达820 mm,并具有钻孔位置,并设计有可与旧式溅射设备以及最新工艺设备一起使用的螺纹,坡口,凹槽和衬背,例如用于太阳能或燃料电池的大面积涂料和倒装芯片应用。旋转(圆柱),圆形,矩形,正方形,环形,环形,椭圆形,“狗骨”形和其他形状的目标物有标准尺寸,定制尺寸和研究尺寸。使用包括X射线荧光(XRF),辉光放电质谱(GDMS)和电感耦合等离子体(ICP)在内的最佳论证技术分析所有目标。使用结晶,固态和其他超高纯工艺(例如升华)生产材料。American Elements专门生产用于商业和研究应用以及新专有技术的定制组合物。请索取以上报价,以获取更多交货时间和价格信息。
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